授予仪式由IEEE福冈分部主办 ,膜霍
旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的尔元结构等技术,纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会 ,商纪念我们将把传承至今的业化仪式技术和勇于挑战的精神传递给下一代 ,